Zero Emissions Fab Gate bei den Silicon Saxony Days 2026

Wie lassen sich Emissionen, Wasserverbrauch und Ressourcenbedarf in der Halbleiterindustrie nachhaltig reduzieren? Im Zero Emissions Fab Gate diskutieren Expertinnen und Experten aus Industrie, Forschung und Anlagenbau aktuelle Herausforderungen und innovative Lösungsansätze – von CF₄-Abatement und Carbon Footprints bis zu Wasserrecycling, Resilienz und nachhaltigem Prozessmanagement.

Freuen Sie sich auf praxisnahe Vorträge, internationale Perspektiven und Networking rund um die nachhaltige Fab der Zukunft.

11:05 – 11:15 Uhr

Welcome & Introduction

Dr. Guy Davies, DAS Environmental Expert GmbH

Kurze Einführung in die Zielsetzung des „Zero Emissions Fab Gate“ und die zentralen Nachhaltigkeitsthemen der Halbleiterindustrie.

11:15 – 11:45 Uhr

Beyond Industry Benchmarks: Raising CF₄ Abatement Efficiency Standards in Semiconductor Manufacturing

Falk Allmrodt, DAS Environmental Expert GmbH

Wie hoch muss die tatsächliche Abatement-Effizienz künftig sein, um globale Klimaziele zu erreichen? Der Vortrag analysiert internationale CF₄-Emissionsdaten und zeigt, warum „Best-in-Class“-Abgasbehandlung nicht nur ökologisch notwendig, sondern auch wirtschaftlich sinnvoll ist – insbesondere im Kontext wachsender CO₂-Bepreisungssysteme.

11:45 – 12:15 Uhr

Semiconductor Wastewater: From Treatment to Recycling and Resource Recovery

Dr. Anita Haupt, DAS Environmental Expert GmbH

Anhand praxisnaher Beispiele aus der Halbleiterindustrie werden moderne Verfahren der industriellen Abwasserbehandlung vorgestellt – von biologischen und chemisch-physikalischen Prozessen bis hin zu Membranverfahren für Wiederverwendung und Ressourcenrückgewinnung.

12:15 – 12:45 Uhr

Water Project Delivery and Process Challenges for High Tech and Mega Facilities

Kiran Thota, Micron Technology

Einblicke in Herausforderungen und Erfolgsfaktoren bei der Umsetzung komplexer Wasserprojekte für High-Tech- und Mega-Facilities.

12:45 – 14:00 Uhr

Lunch Break & Networking Time

Zeit für Networking, Austausch und Diskussionen

14:00 – 14:30 Uhr

Process Data to Actionable Carbon Footprints in Semiconductor Manufacturing

Catherine Marsan-Loyer, C2MI

Wie lassen sich Prozessdaten in konkrete Product Carbon Footprints übersetzen?
Der Vortrag zeigt anhand zertifizierter PCF-Modelle, wie Emissionstreiber identifiziert und nachhaltige Optimierungsmaßnahmen – etwa Wasserrecycling oder biobasierte Materialien – umgesetzt werden können.

14:30 – 15:00 Uhr

Water Resilience Across the AI Value Chain: From Advanced Fabs to Hyperscale Data Centers

Hartmut Schneider, exyte

Wasserverfügbarkeit wird zu einem kritischen Faktor entlang der gesamten AI-Wertschöpfungskette – von modernen Halbleiterfabriken bis zu Hyperscale-Rechenzentren.

15:00 – 15:30 Uhr

Advancing Water Sustainability through Tool-Facility Integration

Harold Stroke, SCREEN

Wie können Tool- und Facility-Systeme gemeinsam zur Wassereinsparung beitragen?
Die Präsentation zeigt anhand digitaler Fabrikmodelle, wie intelligente Integration, Datentransparenz und optimierte Rezirkulation den Frischwasserverbrauch moderner Fabs messbar reduzieren können.

15:30 – 16:00 Uhr

Sustainability Management: Navigating Challenges in Evaluating & Optimizing from CMP to Plasma Etch

Katharina Lilienthal, Fraunhofer IPMS

Von Datenerfassung und Energieverbrauch bis zu Wasser- und Abfallmanagement: Der Vortrag beleuchtet die Herausforderungen nachhaltiger Prozessbewertung entlang der Halbleiterfertigung und zeigt Potenziale für Optimierung und Ressourceneinsparung auf.

16:00 – 16:15 Uhr

Closing Remarks & Prize Draw

Dr. Guy Davies, DAS Environmental Expert GmbH

Abschluss des Zero Emissions Fab Gate mit Zusammenfassung der wichtigsten Erkenntnisse und anschließender Verlosung exklusiver Preise.