半導体産業向け排ガス・排水処理のトータルソリューション

DASは、30年以上にわたりポイント・オブ・ユース型排ガス処理技術を専門としてきました。
プロセス排ガス処理における豊富なノウハウに加え、水処理分野全般にわたる高い専門性が、多くのお客様に支持されています。

人・環境・生産を守るーDASのポイント・オブ・ユース型排ガス処理

最先端の半導体製造では、ウェハ洗浄、エッチング、CVD、エピタキシーなどの各種プロセスにおいて、環境や安全面で配慮が必要な物質を含むプロセス排ガスおよび排水が発生します。
これらのガスの多くは、有毒性や可燃性を持ち、温室効果ガスとしての性質を有するものも含まれます。
未処理のまま中央排気システムに導入すると、配管内の堆積、爆発性混合物の生成、生産停止といった重大なリスクにつながります。

DAS Environmental Expertsは、安全かつ高効率な排ガス・排水処理を可能にするオーダーメイドのソリューションを提供しています。バーナー/スクラバーシステム、スクラバー、静電フィルターなどの point-of-use gas treatment systems により、汚染物質を発生源で確実に除去します。

処理後のガスは粒子を含まない無害な状態となり、排気として安全に放出されます。
また、プロセスにおいて発生する液体についても適切な処理を行い、一貫性のある安全な廃棄コンセプトを提供します。

水処理および廃水処理分野において、当社は半導体産業向けに個別コンセプトを開発しており、既存システムの近代化からターンキー方式による新規プラント建設まで対応しています。当社の専門家がお客様の生産要件に合わせて、現場設置型、準集中型、集中型のプラントを計画、建設、運営します。当社は、世界中の産業排水処理プラント建設において15年以上の実績があり、生物学的・化学物理的プロセスを幅広く取り揃えています。これらのプロセスは、汚染物質を確実に法定基準以下に低減します。また、すべてのシステムはモジュール設計されており、接続準備が整っています。最高水準の純度・安全性・信頼性を満たすことで、貴社の工場においてハイテク生産と環境保護を両立できます。

明るい工場内で、複数の白い産業用装置が一直線に配置され、天井には配管やケーブルが張り巡らされている。

排ガス処理を効率化する柔軟なポイント・オブ・ユース型ソリューション

排ガス処理

1991年以来、DAS Environmental Experts が開発・製造する POU equipment, 排ガス処理という課題に確実に応えてきました。
DASの装置は、半導体業界におけるほぼすべての最新成膜装置およびエッチング装置に対応可能です。

排ガスは安全かつ環境に配慮した方法で処理され、排出ガスは各種法規制要件を確実に満たします。
DASの技術は、柔軟性の高い統合型製品コンセプトに基づいており、最小構成の装置は設置面積1㎡未満の省スペース設計を実現しています。

また、DASのPOU技術は完全自動化され、センサー制御により運用されるとともに、第三者認証による最高水準の安全基準を満たしています。

危険性の高いプロセスガスに対応する最新の排ガス処理技術

半導体製造では多様なプロセスガスが使用されており、適切な排ガス処理を行わなければ、設備や作業者、環境に影響を及ぼすおそれがあります。
DASの排ガス処理ソリューションは、完全自動・センサー制御によって高い除害効果を安定して提供します。

排水処理から資源回収へ

半導体業界では、さまざまな製造および洗浄プロセス、さらにはその後工程における排ガス処理に伴い、排水が発生します。
DASは、このような排水の処理を専門とするエキスパートです。

既存の排水処理設備の改修をご検討の場合でも、新たなプラントの計画を進めている場合でも、DASの専門チームがお客様と緊密に連携し、ニーズに適合し、かつ期待を超えるカスタマイズされたソリューションを開発します。

DASでは、お客様固有の要件を考慮し、集中型、準集中型、ポイント・オブ・ユース(POU)型の排水処理システムをご提供しています。
この柔軟なアプローチにより、技術仕様、設置場所、システム規模を用途に合わせて最適化することが可能です。さらに、システムコンポーネントのモジュール設計により、DASの排水処理システムは高い事前組み立て率でお客様のサイトへ納入され、短期間で安全かつ持続可能な導入を実現します。

清潔で明るい工場内の大きなタンクの前で、ビジネスカジュアルな服装の男性と女性が資料を持ちながら何かを見上げている。

半導体業界向けに、DASは以下のソリューションを提供しています。

  • 排水中の有機汚染物質(COD・BOD)の除去

  • 重金属および有害物質の除去

  • CMP(化学機械研磨)排水の処理

  • シリコン廃棄物の処理

  • フッ化物・ヒ素含有排水の処理

  • および高度処理IPAおよびその他VOCの処理

  • 処理水の再利用(再生水利用)

  • 排水からの有価金属回収・再資源化

半導体製造における生物学的排水処理プラントの導入例

導入事例

近代的な集中式下水処理場の3Dモデルには、調整槽、MBRR、混合槽、濾過室、ブロワ室、薬品室、MTC室、脱水室、汚泥排出室、臭気制御装置、制御センターなどの各種構成要素が示されている。

環境負荷低減に貢献する排ガス・排水統合処理

半導体製造における排ガスおよび排水の統合処理システム

工業施設から出る排水を処理し、浄化された水を再利用または資源回収に回す流れを示す模式図。
半導体製造プロセスの環境サステナビリティを向上

30年以上にわたり、DAS Environmental Expertsは、排ガス処理と排水処理を統合した持続可能なクローズドプロセスの開発に取り組んできました。
発生源での排ガス処理、排水処理、そして水の再利用を可能にする当社の技術は、半導体製造における排出削減から資源回収まで、環境負荷低減に大きく貢献しています。

半導体業界におけるPFAS問題

DASは、半導体業界がPFASを安全かつ持続可能な方法で管理できるよう、高度な排ガスおよび排水処理ソリューションを開発しています。

持続可能な開発目標(SDGs)

持続可能な開発目標(SDGs)の目標6「安全な水とトイレ」、7「エネルギーをみんなに そしてクリーンに」、9「産業と技術革新の基盤をつくろう」、12「つくる責任 つかう責任」を表すアイコン。

半導体業界に関するあらゆるご相談の窓口

半導体製造における安全な排ガス・排水処理のためのカスタマイズソリューションをご提供します

Teddy Wang

Regional Head of Operations DAS Japan 地域統括本部長

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