반도체 제조 공정의 PFAS

첨단 폐가스 및 폐수 처리 솔루션을 통해 PFAS 배출을 효과적으로 저감하고, 보다 깨끗하고 지속가능한 반도체 제조 환경을 실현하는 방법을 확인해 보세요.

분자를 추상적으로 표현한 로우 폴리곤 와이어프레임 메쉬는 어두운 파란색 밤하늘에 점과 별들로 이루어진 별자리처럼 보입니다.

반도체 제조 공정의 PFAS

반도체 산업에서는 per- and polyfluoroalkyl substances (PFAS) 물질을 다루는 데 있어 큰 과제에 직면하고 있습니다. 이 물질들은 온도와 화학적 내성이 뛰어난 특성 덕분에, 특히 에칭 및 세정 공정, 그리고 멤브레인과 필터 구성 요소 등 반도체 제조의 다양한 분야에서 필수적으로 사용됩니다.

PFAS에 대한 집중 조명

PFAS는 그 특성으로 인해 점점 더 규제 당국의 주목을 받고 있습니다. 이들 화학물질 중 다수는 독성이 있으며, 암과 불임을 유발하고 면역 체계를 약화시킬 수 있습니다. 게다가 탄소-불소 결합이 매우 안정적이어서 자연적으로 분해되지 않습니다.

울창한 숲 속 매끄러운 바위 위로 잔잔한 폭포수가 쏟아져 내리고, 나무 사이로 스며든 햇살이 흐르는 물에 반짝이는 반영을 만들어내며 고요하고 평화로운 자연의 풍경을 선사합니다.

PFAS 규제 및 처리 기술

유럽화학청(ECHA)은 유럽경제지역 내 PFAS 전면 금지를 제안했습니다. 또한 미국의 여러 주에서는 PFAS가 포함된 다양한 소비재와 산업용 제품에 대한 금지 및 제한을 시행 중이거나 계획하고 있습니다.

일본 역시 2025년 1월부터 138종의 PFAS 화학물질의 제조, 수입, 사용 금지를 시행할 예정입니다.
전 세계적으로는 스톡홀름협약에서 여러 PFAS를 퇴출 또는 사용 제한 대상으로 지정했으며, 최근에는 장쇄 퍼플루오로카르복실산 (PFCA)에 대한 금지가 확정되어 2026년 1월부터 모든 회원국에서 시행될 예정입니다.

당사의 폐가스폐수 처리 분야 전문성은 반도체 산업에서 증가하는 PFAS 문제에 대응할 수 있는 미래 지향적 기술 개발의 탄탄한 기반이 됩니다. 여기에는 CF₄와 같은 PFAS의 효과적인 제거를 위한 처리 시스템 최적화와 혁신적인 처리 기술 연구가 포함됩니다.