ESCAPE DUO(Burn-Wet)를 이용한 Point-of-Use 폐가스 처리
반도체 및 태양광 공정을 위한 소형 고성능 시스템
ESCAPE DUO – 안전하고 효율적인 공정 가스 처리를 위한 모듈형 Burn-Wet 시스템
폐가스 처리
ESCAPE 제품군은 25년 이상 시장에서 검증된 당사의 point-of-use : burn-wet 기술의 기반입니다. 이 폐가스 스크러버(Burn-wet)는 반도체 및 태양광 산업에서 발생하는 거의 모든 공정 가스를 유연하게 처리하도록 맞춤 설계되어 사용됩니다.
공간 절약형 시스템은 다양한 높이로 구성할 수 있으며, 특별한 도구 없이도 손쉽게 유지보수가 가능합니다. 또한 매체 공급 방식도 유연하게 조정할 수 있습니다. 선택 사양인 공정 연계 기능을 통해 안전성을 높이고 운영 비용을 절감할 수 있어, 현장에서 직접 효율적이고 신뢰할 수 있는 폐가스 처리가 가능합니다.
ESCAPE DUO를 활용한 산업 공정의 효율적 처리
마이크로칩, 태양광 모듈, 평면 디스플레이, 발광 다이오드(LED)와 같은 고성능 하이테크 제품의 제조에는 매우 복잡한 단계의 생산 공정이 수반됩니다. 이러한 공정에서는 여러 단계에서 다양한 폐가스가 발생하며, 이는 현장에서 즉시 처리되어야 합니다.
CVD – Chemical Vapor Deposition
Chemical vapour deposition (CVD)은 e.g. made of silicon nitride 또는 polysilicon 위에 얇은 층을 형성하는 화학 반응을 포함합니다. DAS Environmental Experts는 ESCAPE, UPTIMUM, STYRAX, LARCH와 같은 효율적인 시스템을 통해 이러한 CVD 및 MOCVD 공정에서 발생하는 폐가스를 안전하게 처리할 수 있는 솔루션을 제공합니다.
Etch
Etching은 화학 물질을 이용하여 소재를 선택적으로 제거하는 작업을 포함하며, 반도체 제조 공정에서도 활용됩니다. DAS Environmental Experts는 ESCAPE 및 STYRAX 시스템(Burn-Wet 기술 기반)을 통해 이 과정에서 발생하는 불소 함유 폐가스를 신뢰성 있게 처리합니다.
안전한 폐가스 처리를 위한 Burn-Wet 기술
DAS Environmental Experts의 컴팩트 Burn-wet 조합 시스템은 수십 년간 축적된 폐가스 처리 경험을 바탕으로 개발되었습니다. 공정 가스는 구성 성분에 따라 ring-shaped burner에서 산화, 환원 또는 열분해 과정을 거치며 처리됩니다. 이어지는 습식 스크러빙 단계에서는 발생한 화합물을 안정적으로 냉각·포집합니다. 이 사용 시점 기술은 불소 화합물, NH₃, SiH₄ 또는 H₂등 다양한 산업 폐가스를 안전하고 효율적으로 처리할 수 있도록 하며, 전 세계 반도체 산업에서 활용되고 있습니다.
ESCAPE DUO로 폐가스 처리를 최적화하세요.
신뢰할 수 있는 Burn-Wet 기술을 기반으로, 고객사의 생산 요구에 맞춰 개별적으로 구성 가능한 시스템을 제공합니다.
ESCAPE DUO – 기술 사양 및 구성 옵션
ESCAPE DUO Burn-Wet System
작동 원리
공정 폐가스의 유해 물질은 발생 지점 (Point-of-Use)에서 직접 처리됩니다. 폐가스는 ring-shaped의 burner 장치로 유입되며, 폐가스의 화학적 조성에 따라 산화, 환원, 열분해등 다양한 반응이 발생합니다.
이어지는 스크러빙 과정에서는 연소로 인해 생성된 용해성, 기체 및 고체 화합물이 적절한 세정액을 통해 흡수되고 냉각됩니다.
즉시 세정함으로써 hydrogen halides와 같은 연소 부산물이 중화됩니다. ESCAPE를 포괄적인 처리 컨셉 내에서 적용하면, 하이테크 산업의 제조업체는 독일 대기오염법(TA Luft)의 엄격한 기준을 충족할 수 있습니다.
