使用端廢氣處理裝置 ESCAPE DUO (燃燒/水洗式）
適用於半導體和太陽能製程的整合型高效廢氣處理設備
ESCAPE DUO——用於安全高效處理製程廢氣的模組化燃燒式Scrubber
廢氣處理
ESCAPE 產品系列是我們使用端(Point-of-Use)燃燒式Scrubber技術的基礎，該技術已在市場上證明其價值超過 25 年。廢氣處理Scrubber (燃燒/水洗式）具備高度靈活性，可針對幾乎所有半導體與太陽能產業產生的製程廢氣進行客製化淨化處理。
節省空間的系統可配置不同高度，且無需特殊工具即可輕鬆維護！廠務需求可靈活調整。選配的製程連動功能可提升安全性並降低營運成本——實現高效可靠的廢氣處理，直接在使用端完成處理。
以ESCAPE DUO高效處理產業製程
製造晶片、太陽能模組、平面顯示器及LED等高性能科技產品，涉及高度複雜的多階段生產製程。這些製程在各個子步驟中都會產生廢氣，這些廢氣必須在使用端直接處理。
CVD - 化學氣相沉積
在化學氣相沉積(CVD)過程中，化學反應會在基層上形成薄層，例如氮化矽或多晶矽。
為了確保這些 CVD 和 MOCVD 製程的廢氣安全處理，DAS Environmental Experts 提供高效能的處理系統，例如 ESCAPE、UPTIMUM、STYRAX 和 LARCH。
Etch - 蝕刻
蝕刻（Etching）是使用化學物質有針對性地去除材料的過程，例如在半導體製造中。DAS Environmental Experts 使用基於燃燒式Scrubber的 ESCAPE 和 STYRAX 系統，可靠地處理蝕刻過程中產生的含氟廢氣。
燃燒式Scrubber技術，實現安全的廢氣處理
DAS Environmental Experts推出的整合型燃燒式Scrubber組合設備，奠基於數十年廢氣處理技術經驗。在環形燃燒器中，製程廢氣將根據其成分進行氧化、還原或熱解處理。隨後的水洗式洗滌可有效冷卻並結合生成的化合物。根據DAS減排處理系統的不同，製程設計可能有所差異。
此項使用端技術能夠安全且有效率地處理產業廢氣，包括含氟化合物、氨、矽烷或氫氣的廢氣，並已在全球半導體產業中廣泛應用。
使用 ESCAPE DUO 優化廢氣處理
請選擇可靠的燃燒式Scrubber處理技術——可根據您的生產需求進行個別配置
ESCAPE DUO – 技術規格與選配方案
ESCAPE DUO 廢氣處理Scrubber (燃燒/水洗式)
運作原理
廢氣直接從使用端直接進行處理。為此，將製程廢氣導入環形燃燒器中。根據其化學成分的不同，會發生各種反應（氧化、還原、熱解）。
後續洗滌過程中，燃燒產生的可溶性、氣態及固態成分將被適當洗滌液吸附。同時，洗滌液使燃燒產物迅速冷卻。
即時洗滌可中和氫鹵化物等燃燒產物。透過將 ESCAPE 技術應用於整體減排方案中，高科技產業的製造商將能夠滿足德國空氣污染法（TA Luft）的嚴格標準。
