LARCH – 燃燒式處理系統
LARCH 是我們的燃燒式處理產品系列，專為 MOCVD 和 EUV 製程在使用端處理廢氣而開發。
LARCH－LED和GaN產業MOCVD製程廢氣的使用端處理系統
LARCH 是 DAS Environmental Experts 專門開發，為處理 LED、μLED、GaN 的 MOCVD 製程所產生的廢氣，以及在使用端處理 EUV 製程所產生的廢氣。
氧化和熱解相結合的處理過程以可持續的方式擴展了DAS的技術組合。 LARCH的特點是投資和營運成本低、設計簡單可靠且環境影響小（零CO2排放，極低的NOx排放）。目前的裝置維護週期超過六個月。維護通道可從兩側進入。透過製程機台連動介面可以優化運行成本。透過應用熱交換器，製程氣體的熱量可用於其他生產領域。
LARCH - 用於高效處理產業製程的燃燒式處理系統
LARCH
LARCH是我們開發的使用端廢氣處理系統。它能夠處理大量的氫氣和氨氣，以及少量的金屬有機物和矽烷，這些物質通常存在於常見的MOCVD和EUV製程中。 LARCH的特點包括投資和營運成本低、設計簡單可靠、環境影響小：無CO2排放、NOx排放極少且無廢水產生，維護週期超過六個月。
LARCH PLUS
LARCH PLUS 是 LARCH 使用端處理產品系列的最新成員。它是為了滿足 GaN 和 EUV 產能需求而推出的，能夠處理大流量的氫氣和氨氣，以及小流量的金屬有機物和硅烷。LARCH PLUS 的特點包括投資和運行成本低、設計簡單且堅固耐用、對環境影響小：無CO2排放、NOx排放極少且無廢水排放，維護間隔超過六個月。
使用 LARCH 優化廢氣處理
針對 LED 和 GaN 產業 MOCVD 製程廢氣的使用端處理進行優化
LARCH - 技術規格與選配方案
LARCH (燃燒式)
廢氣主要成分為氫氣和氨氣，先加熱，導致氨氣熱解。然後，氫氣被電加熱元件點燃，並與吸入反應器的環境空氣中的氧氣燃燒。釋放的反應焓用於加熱後續的廢氣。
剩餘的熱能透過熱交換器或空氣冷卻的方式從處理後的氣體中散失，然後排放。反應產物為氮氣和水蒸氣。由於符合德國空氣污染法（TA Luft）的標準，廢氣無需進一步處理即可排放到環境中。
