半導體產業的觸媒催化式氮氧化物（NOx）處理技術
在燃燒/水洗式及其他會產生氮氧化物（NOx）的處理系統之後，進行二次廢氣處理，以最大限度地減少氮氧化物排放。
符合最高環境標準的二次廢氣處理
現代的燃燒/水洗式系統能可靠地去除多種危險的製程氣體。與此同時，此過程可能會產生氮氧化物（NOx），而相關環境法規對其的管制正日益嚴格。觸媒催化後處理 為針對性地降低 NOx 排放量提供了有效的解決方案。
TSUGA——實際應用
TSUGA 結合 選擇性觸媒催化還原（SCR） 並具備高效能的微粒物過濾功能。該系統用作下游處理方案，能在不影響上游廢氣處理系統運作的情況下，可靠地降低氮氧化物及微粒物的排放量。
ALCEA – 先進觸媒催化系統
ALCEA 是一款高度整合且高效能的二次處理系統，專門用於降低半導體製造過程中的氮氧化物（NOx）排放。該製程利用電漿強化觸媒催化技術，在最低能源消耗下，實現高達 95% 的卓越 NOx 處理效率。ALCEA 幾乎不佔用任何空間。該技術系統可輕鬆安裝於半導體廠房的排氣管道系統中。
